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定量限界(Method Quantitation Limit : MQL)
適切な精確さをもって定量できる分析種(測定対象成分)の最低量または最小濃度 S/N (分析対象物のシグナルとベースラインノイズの比)=概ね10 となる分析対象物の試料中濃度
検出限界(Method Detection Limit : MDL)
試料に含まれる分析種(測定対象成分)の検出可能な最低量または最小濃度 S/N (分析対象物のシグナルとベースラインノイズの比)=3 となる分析対象物の試料中濃度
※定量限界の1/2〜1/10の範囲

添加回収率(Marginal recovery)
試料に既知濃度の物質を添加し、処理後検出された濃度の割合
Marginal recovery ( % ) = 100(Cf-Cu)/CA
Cf : 添加後の濃度
Cu : 添加前の濃度
CA : 添加濃度
ブランク試験(Blank test)
1. 試料のない状態での一連の操作データ測定(操作ブランク)
試薬・器具・装置あるいは環境からの汚染が無いことを確認する試験
2. 試料のない状態でのデータ測定(装置ブランク)
装置の汚染が無いことを確認する試験
標準物質(Reference Material : RM)
測定装置の校正、測定方法の評価又は、材料に値を付与する事に用いるために1つ以上の特性値が十分に均一で
適切に確定されている材料又は、物質(JIS Q 0030:1997 , ISO Guide 30:1992)
分析方法及び装置名略語
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AA(S)
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原子吸光光度計
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HPLC-MS or
HPLC-MS/MS
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高速液体クロマトグラフ 質量分析計
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AEM
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分析電子顕微鏡装置
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MS
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質量分析装置
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AES
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オージェ電子分光装置
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NIR
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近赤外分光光度計
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AFM
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原子間力顕微鏡装置
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NMR
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核磁気共鳴装置
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CD
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円二色性分散計
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PCR
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複製連鎖反応装置 (サーマルサイクラ)
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CE
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キャピラリー
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QMS
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四重極形質量分析装置
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CGE
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キャピラリーゲル
電気泳動装置
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RBS
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ラザフォード 後方散乱分光装置
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CLD
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化学発光検出器
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RSS
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ラマン散乱分光装置
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CZE
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キャピラリーゾーン
電気泳動装置
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SAES
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走査形オージェ電子分光計
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DNA
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デオキシリボ核酸
アナライザー
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HPLC-
SEC(GPC)
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サイズ排除クロマトグラフ
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DSC
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示差走査熱量計
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SEM
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走査形電子顕微鏡装置
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DTA
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示差熱分析装置
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SEM/EDX
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エネルギー分散型 走査電子顕微鏡装置
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ECD
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電子捕獲検出器
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SFC
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超臨界流体クロマトグラフ
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ECD
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電子化学検出器
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SFE
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超臨界流体抽出法
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EDX
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エネルギー分散型
X線分光計
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SIMS
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二次イオン質量分析計
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EPMA
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電子ブローブ型 X線マイクロ分析計
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SPM
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走査プローブ顕微鏡装置
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ESR
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電子スピン共鳴装置
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SR
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シンクロトロン放射光度装置
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FAB
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高速原子衝撃イオン化装置
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SSD
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半導体検出器
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FIA
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フローインジェクション分析法
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STM
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走査トンネル電子顕微鏡装置
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FIB
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収束イオンビーム装置
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TA
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熱分析装置
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FID
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水素炎イオン化検出器
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TEM
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熱機械的分析装置
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FIM
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電界イオン顕微鏡装置
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TG
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熱重量測定装置
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FPD
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炎光光度検出器
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TLC
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薄層クロマトグラフ
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FT-IR
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フーリエ変換赤外分光光度計
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TMA
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熱機械的分析装置
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FT-NIR
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フ−リエ変換 近赤外分光光度計
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TOF-MS
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飛行時間型質量分析計
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FT-NMR
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フーリエ変換核磁気共鳴 解析装置
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TOF-SIMS
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飛行時間型二次イオン 質量分析計
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FTD
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熱イオン化検出器
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TRXRF
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全反射蛍光X線装置
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GC
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ガスクロマトグラフ
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UPS
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紫外光電子分光装置
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GC-MS or
GC-MS/MS
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ガスクロマトグラフ 質量分析計
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UV/VIS
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紫外可視吸光光度計
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GD-AES
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グロー放電発光分光装置
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UV
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紫外・可視吸光光度法
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HPLC
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高速液体クロマトグラフ
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XAFS
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X線吸収微細構造解析装置
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IC
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イオンクロマトグラフ
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XD(XRD)
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X線回折装置
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ICP-AES
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誘導結合高周波プラズマ 発光分光装置
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XF(XRF)
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蛍光X線解析装置
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ICP-MS
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誘導結合高周波プラズマ 質量分析計
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XPS
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X線光電子解析装置
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IR
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赤外分光光度計
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XRF/EDX
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エネルギー分散型 蛍光X線解析装置
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LC
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液体クロマトグラフ
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XRF/WDX
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波長分散型蛍光X線装置
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