MASIS Inc.  Food&Drug Nano Analysis
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◆測定

機器測定

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 報告書に記載されている定量限界・検出限界・分析用語

  定量限界(Method Quantitation Limit : MQL)

 

適切な精確さをもって定量できる分析種(測定対象成分)の最低量または最小濃度

 

S/N (分析対象物のシグナルとベースラインノイズの比)=概ね10 となる分析対象物の試料中濃度

 

 

   検出限界(Method Detection Limit : MDL)

 

試料に含まれる分析種(測定対象成分)の検出可能な最低量または最小濃度

 

S/N (分析対象物のシグナルとベースラインノイズの比)=3 となる分析対象物の試料中濃度

 

※定量限界の1/2〜1/10の範囲

 

 

   添加回収率(Marginal recovery)

 

試料に既知濃度の物質を添加し、処理後検出された濃度の割合

 

 Marginal recovery ( % ) = 100(Cf-Cu)/CA

 

 Cf : 添加後の濃度

 

 Cu : 添加前の濃度

 

 CA : 添加濃度 

 

 

   ブランク試験(Blank Test)

 

1. 試料のない状態での一連の操作データ測定(操作ブランク)

 

  試薬・器具・装置あるいは環境からの汚染が無いことを確認する試験

 

2. 試料のない状態でのデータ測定(装置ブランク)

 

  装置の汚染が無いことを確認する試験

 

 

   標準物質(Reference Material : RM)

 

測定装置の校正、測定方法の評価又は、材料に値を付与する事に用いるために

 

1つ以上の特性値が十分に均一で、適切に確定されている材料又は

 

物質(JIS Q 0030:1997 , ISO Guide 30:1992)

 

 

   質量(mass)と(m/z)

 

h = 水素の質量 (1H の monoisotopic mass) 1.007825 [u]
e = 電子の質量 0.000549 [u]

H+ の質量は h - e = 1.007276 [u]


分子質量 = M とすれば

H+ adduct 
 [M+H]+(1価イオン)の mass = M + h -e m/z = mass
 [M+2H]2+(2価イオン)の mass = M + 2h - 2e m/z = mass/2
 [M+nH]n+(n価イオン)の mass = M + n(h - e) m/z = mass/n

H-
  [M-nH]n- mass = M - nh + ne m/z = mass/n = M - n(h - e)

 

 

   S/N図


 

  分析用語及び装置名略語

 AA(S)

 原子吸光光度計

 HPLC-MS or 
 HPLC-MS/MS

 高速液体クロマトグラフ
 質量分析計

 AA(S)

 原子吸光光度計

 HPLC-MS or 
 HPLC-MS/MS

 高速液体クロマトグラフ
 質量分析計

 AEM

 分析電子顕微鏡装置

 MS

 質量分析装置

 AES

 オージェ電子分光装置

 NIR

 近赤外分光光度計

 AFM

 原子間力顕微鏡装置

 NMR

 核磁気共鳴装置

 CD

 円二色性分散計

 PCR

 複製連鎖反応装置
 (サーマルサイクラ)

 CE

 キャピラリー

 QMS

 四重極形質量分析装置

 CGE

 キャピラリーゲル
 電気泳動装置

 RBS

 ラザフォード
 後方散乱分光装置

 CLD

 化学発光検出器

 RSS

 ラマン散乱分光装置

 CZE

 キャピラリーゾーン
 電気泳動装置

 SAES

 走査形オージェ電子分光計

 DNA

 デオキシリボ核酸
 アナライザー

 HPLC-
 SEC(GPC)

 サイズ排除クロマトグラフ

 DSC

 示差走査熱量計

 SEM

 走査形電子顕微鏡装置

 DTA

 示差熱分析装置

 SEM/EDX

 エネルギー分散型
 走査電子顕微鏡装置

 ECD

 電子捕獲検出器

 SFC

 超臨界流体クロマトグラフ

 ECD

 電子化学検出器

 SFE

 超臨界流体抽出法

 EDX

 エネルギー分散型
 X線分光計

 SIMS

 二次イオン質量分析計

 EPMA

 電子ブローブ型
 X線マイクロ分析計

 SPM

 走査プローブ顕微鏡装置

 ESR

 電子スピン共鳴装置

 SR

 シンクロトロン放射光度装置

 FAB

 高速原子衝撃イオン化装置

 SSD

 半導体検出器

 FIA

 フローインジェクション分析法

 STM

 走査トンネル電子顕微鏡装置

 FIB

 収束イオンビーム装置

 TA

 熱分析装置

 FID

 水素炎イオン化検出器

 TEM

 熱機械的分析装置

 FIM

 電界イオン顕微鏡装置

 TG

 熱重量測定装置

 FPD

 炎光光度検出器

 TLC

 薄層クロマトグラフ

 FT-IR

 フーリエ変換赤外分光光度計

 TMA

 熱機械的分析装置

 FT-NIR

 フ−リエ変換
 近赤外分光光度計

 TOF-MS

 飛行時間型質量分析計

 FT-NMR

 フーリエ変換核磁気共鳴
 解析装置

 TOF-SIMS

 飛行時間型二次イオン
 質量分析計

 FTD

 熱イオン化検出器

 TRXRF

 全反射蛍光X線装置

 GC

 ガスクロマトグラフ

 UPS

 紫外光電子分光装置

 GC-MS or
 GC-MS/MS

 ガスクロマトグラフ
 質量分析計

 UV/VIS

 紫外可視吸光光度計

 GD-AES

 グロー放電発光分光装置

 UV

 紫外・可視吸光光度法

 HPLC

 高速液体クロマトグラフ

 XAFS

 X線吸収微細構造解析装置

 IC

 イオンクロマトグラフ

 XD(XRD)

 X線回折装置

 ICP-AES

 誘導結合高周波プラズマ
 発光分光装置

 XF(XRF)

 蛍光X線解析装置

 ICP-MS

 誘導結合高周波プラズマ
 質量分析計

 XPS

 X線光電子解析装置

 IR

 赤外分光光度計

 XRF/EDX

 エネルギー分散型
 蛍光X線解析装置

 LC

 液体クロマトグラフ

 XRF/WDX

 波長分散型蛍光X線装置

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